Anna Karima Wane ja Lotta Hurnanen valittu Jan van Eyck Academie- ja LIFT-alumniresidenssien stipendiaateiksi

Liaison of Independent Filmmakers of Toronto (LIFT) -alumniresidenssiin syksyllä 2025 ja Maastrichtin Jan van Eyck Academie -alumniresidenssiin vuonna 2026 lähtevät kuvataiteilijat on valittu.

Anna Karima Wane ja Lotta Hurnanen Saastamoisen säätiöllä.
Valokuva: Sade Kahra Anna Karima Wane ja Lotta Hurnanen Saastamoisen säätiöllä.

Taideyliopiston Kuvataideakatemia tukee yhdessä Saastamoisen säätiön kanssa alumniensa kansainvälistymistä ja kuvataiteilijan uralla etenemistä residenssistipendien muodossa. Jan van Eyck Academien residenssiohjelman (11 kk) tuki on yhteensä 76 600 euroa ja LIFT-residenssiohjelman (3 kk) tuki yhteensä 12 300 euroa.

Vuosittain vaihtuvat kansainväliset asiantuntijaraadit tekevät stipendiä hakeneista Kuvataideakatemian alumneista esivalinnan, jonka pohjalta residenssikeskukset tekevät lopulliset valinnat.  

Taideyliopiston Kuvataideakatemiasta vuonna 2024 valmistunut, videon, kokeellisen dokumentaarisuuden ja sosiaalisen praktiikan parissa työskentelevä kuvataiteilija Anna Karema Wane valittiin Maastrichtin Jan van Eyck Academien 11 kuukauden pituiselle residenssijaksolle, joka alkaa tammikuussa 2026. Jan van Eyck Academie on Euroopan tunnetuimpia jatko-opintoihin keskittyviä kansainvälisiä residenssikeskuksia, jonka ohjelmassa työskentelee vuosittain noin 45 taiteilijaa, suunnittelijaa, tutkijaa, kirjoittajaa ja kuraattoria.

Pysäytyskuva videoteoksesta How to Eat a Mango, 2023. Kuva taiteilijan luvalla.
a rememory that belongs to somebody else -näyttely the Museum of Impossible Forms -kulttuurikeskuksessa, toukokuu 2024. Valokuva: Rong Ci Zhang.

Esivalintaraati kuvaili Wanen hakemusta seuraavasti: 

“This artist and their interest in displacement and reconstructive memory could benefit from the resources Jan van Eyck has to offer. The inverse is also true, they are a global citizen with a penchant for community building and collaborative work. Their work is also striking and poses material conundrums.” 

Jan van Eyck Academie -residenssihakemusten arviointipaneeli 2025:  

  • Onome Ekeh, kuvataiteilija, kirjoittaja 
  • Luísa Santos, tutkija, kuraattori 
  • Hanna Johansson, professori, nykytaiteen tutkimus 

Kokeellisen elokuvan parissa työskentelevä ja Kuvataideakatemiasta niin ikään 2024 maisteriksi valmistunut kuvataiteilija Lotta Hurnanen valittiin Liaison of Independent Filmmakers of Toronto –residenssiohjelmaan. Kolmen kuukauden residenssijakso Kanadassa alkaa syksyllä 2025. LIFT on taiteilijavetoinen mediataiteen tuotanto- ja koulutusorganisaatio, jossa on erityisesti liikkuvan kuvan huippuosaamista.  

Esivalintaraati kuvaili Hurnasen hakemusta seuraavasti:  

“This is a very strong application with a clear focus and intention for the residency. The project is driven by an exploratory approach to film chemistry and microbial expression. With a background in gardening, the applicant has a strong connection to landscape and materiality, which she wishes to interrogate further by understanding different photochemical processes. The residency at LIFT could help the applicant to realise the ambition of the proposed project. There is also the potential for this artist to forge connections between analogue film communities in Finland and Canada.” 

LIFT-residenssihakemusten arviointipaneeli 2025:  

  • Kim Knowles, akateemikko, kuraattori, Iso-Britannia 
  • Daniel A. Swarthnas, taiteilija, kuraattori, Belgia 
  • Maija Timonen, kirjoittaja, taiteilija, Suomi 

Kuvataideakatemialla on viisi residenssikumppania. Lisäksi alumneilla on mahdollisuus hakea stipendiä Amsterdamin Rijksakademie van beldeende kunstenin residenssiin. LIFT-residenssistipendihaku oli auki helmikuun ajan ja Jan van Eyck Academien residenssistipendi oli haettavissa 10.3.-10.4.2025. Haku Ecologies in the Making: Sculpting Futures -residenssiin Skotlannissa ja ISCP-residenssiin New Yorkissa avautuvat syksyllä 2025. Rijksakademie van beeldende kunsten -residenssiin haetaan suoraan, ja haku päättyy vuosittain lokakuussa.